激光反射鏡是激光光纖傳輸系統中重要的元件

　　無(wú)氧銅材料由于其高熱導性通常應用于高功率激光系統中；由于單晶硅是高性?xún)r(jià)比的基底材料，所以常用的的基材是“硅”。銅材料由于其高熱導性通常應用于高功率激光系統中。鉬相當耐磨的表面適用于很多特定需要的物理環(huán)境，鉬反射鏡一般是不鍍膜的。

　　反射鏡、高反射鏡、前表面反射鏡在光學(xué)上的應用都是一樣的。

　　通過(guò)真空鍍膜鍍一層金屬銀(或鋁)薄膜，使入射光反射的光學(xué)元件。采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;且是第一反射面反射，反射圖像不失真，無(wú)重影，為前表面反射作用。如采用普通反射鏡為第二反射面，不僅反射率低，對波長(cháng)無(wú)選擇性，而且易產(chǎn)生重影。而采用鍍膜膜面反射鏡，得到的圖像不僅亮度高，而且精確無(wú)偏差，畫(huà)質(zhì)更清晰，色彩更逼真。前表面反射鏡廣泛為光學(xué)高保真掃描反射成像之作用。

　　激光反射鏡是激光光纖傳輸系統中重要的元件，在CO2激光光路中，反射鏡可以有兩方面的應用，在激光管內反射鏡可作為尾鏡，該鏡片基底帶有一定的曲率，起到震蕩激光的作用；在某些激光設計中，激光反射鏡能在激光管內改變光線(xiàn)，起到減少激光管長(cháng)度的作用；在激光管外，反射鏡和聚焦鏡配合，構成一個(gè)完整的光路，使得激光機器的設計更加節省空間，并盡可能減少激光損耗，大程度保留激光工作功率。

　　反射鏡一般采用鉬和硅作為基底，鉬反射鏡能在條件苛刻的環(huán)境中工作，并且使用壽命長(cháng)，承受功率高，表面不需鍍膜，耐擦拭，缺點(diǎn)是反射率低。硅是常用的鍍膜反射鏡基材，擁有良好的光學(xué)熱力性。