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簡(jiǎn)要描述：Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器Femtoline寬帶激光分束器，鍍膜波長(cháng)為720-880 nm或750-850 nm。激光損傷閾值：> 50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型值為800 nm。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-03-17訪(fǎng) 問(wèn) 量：724相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器
Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器
Femtoline寬帶激光分束器，鍍膜波長(cháng)為720-880 nm或750-850 nm。激光損傷閾值：> 50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型值為800 nm。
產(chǎn)品介紹
Ø在720-880 nm或750-850 nm鍍膜
Ø專(zhuān)為S或P偏振而設計
Ø激光損傷閾值：> 50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm
分束器將平均偏振激光束分成彼此分開(kāi)90°的兩束。
標準基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板，請從Precision Thin Round Windows中選擇。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現現成的交付。
產(chǎn)品型號
波長(cháng)范圍-720-880 nm，設計用于S偏振
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長(cháng) | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
042-7708SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 8±1 % | 92±1 % | S-pol | 45° |
042-7720SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 20±5 % | 80±5 % | S-pol | 45° |
042-7730SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 30±5 % | 70±5 % | S-pol | 45° |
042-7740SB | UVFS | Ø25.4x3 mm | 720-880 nm | 40±5 % | 60±5 % | S-pol | 45° |
042-7750SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 50±5 % | 50±5 % | S-pol | 45° |
042-7760SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 60±5 % | 40±5 % | S-pol | 45° |
042-7770SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 70±5 % | 30±5 % | S-pol | 45° |
042-7780SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 80±5 % | 20±5 % | S-pol | 45° |
042-7790SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 90±3 % | 10±3 % | S-pol | 45° |
042-7795SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 95±2 % | 5±2 % | S-pol | 45° |
045-7708SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 8±1 % | 92±1 % | S-pol | 45° |
045-7720SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 20±5 % | 80±5 % | S-pol | 45° |
045-7730SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 30±5 % | 70±5 % | S-pol | 45° |
045-7740SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 40±5 % | 60±5 % | S-pol | 45° |
045-7750SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 50±5 % | 50±5 % | S-pol | 45° |
045-7760SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 60±5 % | 40±5 % | S-pol | 45° |
045-7770SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 70±5 % | 30±5 % | S-pol | 45° |
045-7780SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 80±5 % | 20±5 % | S-pol | 45° |
045-7790SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 90±3 % | 10±3 % | S-pol | 45° |
045-7795SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 95±2 % | 5±2 % | S-pol | 45° |
波長(cháng)范圍-750-850 nm，設計用于P偏振
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長(cháng) | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
042-7710PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 10±2 % | 90±2 % | P-pol | 45° |
042-7720PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 20±5 % | 80±5 % | P-pol | 45° |
042-7725PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 25±5 % | 75±5 % | P-pol | 45° |
042-7730PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 30±5 % | 70±5 % | P-pol | 45° |
042-7740PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 40±5 % | 60±5 % | P-pol | 45° |
042-7750PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 50±5 % | 50±5 % | P-pol | 45° |
042-7760PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 60±5 % | 40±5 % | P-pol | 45° |
042-7770PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 70±5 % | 30±5 % | P-pol | 45° |
042-7775PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 75±5 % | 25±5 % | P-pol | 45° |
042-7780PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 80±5 % | 20±5 % | P-pol | 45° |
042-7785PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 85±3 % | 15±3 % | P-pol | 45° |
042-7790PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 90±3 % | 10±3 % | P-pol | 45° |
042-7795PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 95±2 % | 5±2 % | P-pol | 45° |
045-7710PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 10±2 % | 90±2 % | P-pol | 45° |
045-7720PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 20±5 % | 80±5 % | P-pol | 45° |
045-7725PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 25±5 % | 75±5 % | P-pol | 45° |
045-7730PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 30±5 % | 70±5 % | P-pol | 45° |
045-7740PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 40±5 % | 60±5 % | P-pol | 45° |
045-7750PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 50±5 % | 50±5 % | P-pol | 45° |
045-7760PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 60±5 % | 40±5 % | P-pol | 45° |
045-7770PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 70±5 % | 30±5 % | P-pol | 45° |
045-7775PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 75±5 % | 25±3 % | P-pol | 45° |
045-7780PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 80±5 % | 20±5 % | P-pol | 45° |
045-7785PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 85±3 % | 15±3 % | P-pol | 45° |
045-7790PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 90±3 % | 10±3 % | P-pol | 45° |
045-7795PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 95±2 % | 5±2 % | P-pol | 45° |
基材
材料 | 紫外級熔融石英 |
S1表面平整度 | 633 nm時(shí)為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
S2表面平整度 | 633 nm時(shí)為λ/ 10 |
S2表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
平行性 | 30弧秒 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著(zhù)力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過(guò)中心直徑的85％ |
入射角 | 45±3° |
背面防反射鍍膜 | R <0.5％ |
激光損傷閾值 | > 50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現現成的交付
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
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