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Eksma FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-1

簡(jiǎn)要描述:Eksma FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-1
飛秒應用的激光鏡被設計為具有較寬的工作波長(cháng)范圍和線(xiàn)性相位-頻率特性(低群延遲色散(GDD))。鍍膜是單層電介質(zhì),在工作波長(cháng)范圍內沒(méi)有相移。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-17
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:635

產(chǎn)品分類(lèi)

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價(jià)格區間面議
組件類(lèi)別光學(xué)元件應用領(lǐng)域醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma  FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-1


Eksma  FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-1

飛秒應用的激光鏡被設計為具有較寬的工作波長(cháng)范圍和線(xiàn)性相位-頻率特性(低群延遲色散(GDD))。

產(chǎn)品介紹

飛秒應用的激光鏡被設計為具有較寬的工作波長(cháng)范圍和線(xiàn)性相位-頻率特性(低群延遲色散(GDD))。鍍膜是單層電介質(zhì),在工作波長(cháng)范圍內沒(méi)有相移。

對于相同的電介質(zhì)鍍膜,對于S偏振,高反射率反射鏡始終具有更高的反射率,更寬的工作區域和更低的脈沖失真。 如果可能,請使用帶有S偏振光束的反射鏡。

我們的標準反射鏡適用于基本的Ti:Sapphire和Yb:KGW / KYW激光器及其兩倍,三倍或四倍的頻率。 推薦用于在UV區工作的高功率激光應用。

產(chǎn)品型號

257-275 nm

型號

波長(cháng)

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

041-0266

257-275 nm

UV FS

ø12.7 x 3 mm

45°

99.0%

041-0266-i0

257-275 nm

UV FS

ø12.7 x 3 mm

99.0%

041-0266T6

257-275 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.0%

041-0266T6-i0

257-275 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.0%

042-0266

257-275 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.0%

042-0266-i0

257-275 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.0%

045-0266

257-275 nm

UV FS

ø50.8 x 8 mm

45°

99.0%

045-0266-i0

257-275 nm

UV FS

ø50.8 x 8 mm

99.0%

047-0266

257-275 nm

UV FS

ø76.2 x 12.7 mm

45°

99.0%

047-0266-i0

257-275 nm

UV FS

ø76.2 x 12.7 mm

99.0%

333-353 nm

型號

波長(cháng)

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

041-0343

333-353 nm

UV FS

ø12.7 x 3 mm

45°

99.5%

041-0343-i0

333-353 nm

UV FS

ø12.7 x 3 mm

99.7%

041-0343T6

333-353 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.5%

041-0343T6-i0

333-353 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.7%

042-0343

333-353 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.5%

042-0343-i0

333-353 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.7%

045-0343

333-353 nm

UV FS

ø50.8 x 8 mm

45°

99.5%

045-0343-i0

333-353 nm

UV FS

ø50.8 x 8 mm

99.7%

047-0343

333-353 nm

UV FS

ø76.2 x 12.7 mm

45°

99.5%

047-0343-i0

333-353 nm

UV FS

ø76.2 x 12.7 mm

99.7%

380-420 nm

型號

波長(cháng)

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

031-0400

380-420 nm

BK7

ø12.7 x 3 mm

45°

99.5%

031-0400-i0

380-420 nm

BK7

ø12.7 x 3 mm

99.7%

031-0400T6

380-420 nm

BK7

ø12.7 x 6 mm

45°

99.5%

031-0400T6-i0

380-420 nm

BK7

ø12.7 x 6 mm

99.7%

032-0400

380-420 nm

BK7

ø25.4 x 6 mm

45°

99.5%

032-0400-i0

380-420 nm

BK7

ø25.4 x 6 mm

99.7%

035-0400

380-420 nm

BK7

ø50.8 x 8 mm

45°

99.5%

035-0400-i0

380-420 nm

BK7

ø50.8 x 8 mm

99.7%

037-0400

380-420 nm

BK7

ø76.2 x 12.7 mm

45°

99.5%

037-0400-i0

380-420 nm

BK7

ø76.2 x 12.7 mm

99.7%

041-0400

380-420 nm

UV FS

ø12.7 x 3 mm

45°

99.5%

041-0400-i0

380-420 nm

UV FS

ø12.7 x 3 mm

99.7%

041-0400T6

380-420 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.5%

041-0400T6-i0

380-420 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.7%

042-0400

380-420 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.5%

042-0400-i0

380-420 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.7%

045-0400

380-420 nm

UV FS

ø50.8 x 8 mm

45°

99.5%

045-0400-i0

380-420 nm

UV FS

ø50.8 x 8 mm

99.7%

047-0400

380-420 nm

UV FS

ø76.2 x 12.7 mm

45°

99.5%

047-0400-i0

380-420 nm

UV FS

ø76.2 x 12.7 mm

99.7%

 

基材

材料

UV級熔融石英或BK7玻璃

S1表面平整度

633 nm時(shí)為λ/ 10

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡(jiǎn)單拋光

直徑公差

+0.00 mm-0.12 mm

厚度公差

±0.25

<3 min

倒角

在45°典型值為0.3mm

 

鍍膜

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射

附著(zhù)力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗室溶劑

通光孔徑

超過(guò)中心直徑的85%

鍍膜

硬電介質(zhì)高反射率R> 99.5%

專(zhuān)為平均偏振而設計

R =(Rs + Rp)/ 2

激光損傷閾值

> 100 mJ / cm2,50 fsec,50 Hz,800 nm典型

鍍膜表面平整度

透明孔徑下633 nm處的λ/ 10

入射角

0或45±3度

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現現成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現現成的交付。

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