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簡(jiǎn)要描述：Eksma 飛秒級線(xiàn)性偏振激光束的可變衰減器該可變衰減器/分束器由特殊設計的光機適配器和精密的光機支架840-0197組成。適配器中裝有兩個(gè)薄膜布魯斯特型偏振片，它們反射s偏振光同時(shí)透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-04-23訪(fǎng) 問(wèn) 量：673詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 飛秒級線(xiàn)性偏振激光束的可變衰減器
990-0070
Eksma 飛秒級線(xiàn)性偏振激光束的可變衰減器
將激光束分為兩個(gè)平行光束，它們的強度比可手動(dòng)調節，動(dòng)態(tài)范圍大，透射光束偏差可忽略不計，光學(xué)損傷閾值高。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束可手動(dòng)調節強度比的平行束
?大動(dòng)態(tài)范圍
?可以忽略的透射光束偏差
?高光學(xué)損傷閾值
?S -Pol衰減范圍?0.25％-99.0％P-Pol衰減范圍?0.5％-95.0％
該可變衰減器/分束器由特殊設計的光機適配器和精密的光機支架840-0197組成。適配器中裝有兩個(gè)薄膜布魯斯特型偏振片，它們反射s偏振光同時(shí)透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。
可以通過(guò)旋轉波片連續改變這兩個(gè)光束的強度比，而不會(huì )改變其他光束參數?？梢栽诤軐挼膭?dòng)態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°，并獲得較大的偏振對比度。
產(chǎn)品型號
飛秒激光脈沖
型號 | 波長(cháng) | 激光損傷閾值 |
990-0070-343 | 343 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-400 | 400 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-400B | 390-410 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-515B | 505-525 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-515 | 515 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-800 | 800 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-800B | 780-820 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-1030 | 1030 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-1030B | 1010-1050 | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
大功率激光應用
型號 | 波長(cháng) | 激光損傷閾值 |
990-0070-266H | 266 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-343H | 343 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-400H | 400 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-400HB | 390-410 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-515H | 515 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-515HB | 505-525 | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-800H | 800 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-800HB | 780-820 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-1030H | 1030 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0070-1030HB | 1010-1050 nmn | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
孔徑 | 17 mm |
損害閾值 大功率激光應用： | > 10 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型 |
時(shí)間色散 | 對于100 fs Ti：藍寶石激光脈沖，t<4 fs |
偏振對比（一個(gè)偏振片之后） | >1:200 |
偏振對比（二個(gè)偏振片之后） | >1:500 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現現成的交付。
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