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Eksma 雙波段激光反射鏡-4

簡(jiǎn)要描述：Eksma 雙波段激光反射鏡-4
激光線(xiàn)反射鏡是介電反射鏡，在規定的激光波長(cháng)下具有優(yōu)良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線(xiàn)反射的應用。

  • 產(chǎn)品品牌：Eksma
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2021-03-22
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：810

產(chǎn)品分類(lèi)

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品牌Eksma價(jià)格區間面議
組件類(lèi)別光學(xué)元件應用領(lǐng)域醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 雙波段激光反射鏡-4


介電雙波段鏡可在規定的波長(cháng)（基本和倍頻激光線(xiàn)或基本激光線(xiàn)及其對準光束）提供99.5％的反射率。

產(chǎn)品介紹

Ø高反射鏡（99.5％反射率）

Ø設計用于45°或0°入射角

Ø由BK7玻璃或UV級熔融石英制成

Eksma 雙波段激光反射鏡-4

激光線(xiàn)反射鏡是介電反射鏡，在規定的激光波長(cháng)下具有優(yōu)良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線(xiàn)反射的應用。

我們的激光鏡由BK7或石英制成，并涂有多層介電鍍膜。獲得的高拋光質(zhì)量對于低波前畸變，低散射和高損傷閾值也很重要。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

產(chǎn)品型號

UVFS; ø50.8 x 8 mm

型號

材料

D

ET

R, %(S+P)/2

AOI

波長(cháng)

應用

065-2635

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

45°

266+355 nm

Nd:YAG 4H+3H

065-2635-i0

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

0°

266+355 nm

Nd:YAG 4H+3H

065-2653

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

45°

266+532 nm

Nd:YAG 4H+2H

065-2653-i0

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

0°

266+532 nm

Nd:YAG 4H+2H

065-3553

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

45°

355+532 nm

Nd:YAG 3H+2H

065-3553-i0

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

0°

355+532 nm

Nd:YAG 3H+2H

065-3506

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

45°

355+1064 nm

Nd:YAG 3H+1H

065-3506-i0

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

0°

355+1064 nm

Nd:YAG 3H+1H

065-4080

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

45°

390-410+780-820 nm

Ti:Sa 2H+1H

065-4080-i0

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

0°

390-410+780-820 nm

Ti:Sa 2H+1H

065-5103

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

45°

500-530+1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 2H+1H

065-5103-i0

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

0°

500-530+1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 2H+1H

065-5306

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

45°

532+1064 nm

Nd:YAG 2H+1H

065-5306-i0

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

0°

532+1064 nm

Nd:YAG 2H+1H

065-6306

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

45°

633+1064 nm

HeNe:Nd:YAG 1H

065-6306-i0

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.5%

0°

633+1064 nm

HeNe:Nd:YAG 1H

UVFS; ø76.2 x 12.7 mm

型號

材料

D

ET

R, %(S+P)/2

AOI

波長(cháng)

應用

067-2635

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

266+355 nm

Nd:YAG 4H+3H

067-2635-i0

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

0°

266+355 nm

Nd:YAG 4H+3H

067-2653

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

266+532 nm

Nd:YAG 4H+2H

067-2653-i0

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

0°

266+532 nm

Nd:YAG 4H+2H

067-5103

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

500-530+1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 2H+1H

067-5103-i0

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

0°

500-530+1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 2H+1H

067-3506

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

355+1064 nm

Nd:YAG 3H+1H

067-3506-i0

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

0°

355+1064 nm

Nd:YAG 3H+1H

067-5306

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

532+1064 nm

Nd:YAG 2H+1H

067-5306-i0

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

0°

532+1064 nm

Nd:YAG 2H+1H

067-6306

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

633+1064 nm

HeNe:Nd:YAG 1H

067-6306-i0

UVFS

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

0°

633+1064 nm

HeNe:Nd:YAG 1H

 

SUBSTRATE

材料

BK7 *玻璃或UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/10 typical at 633 nm

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度激光質(zhì)量

S2表面質(zhì)量

簡(jiǎn)單拋光

直徑公差

+ 0.00 mm, - 0.12 mm

厚度公差

± 0.25 mm

楔

< 3 minutes

倒角

0.3 mm at 45° typical

鍍膜

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)

附著(zhù)力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗室溶劑

通光孔徑

超過(guò)中心直徑的85％

損壞閾值

BK7雙線(xiàn)鏡-1 J / cm2，8 ns脈沖，典型1064 nm

鍍膜表面平整度

UVFS雙線(xiàn)反射鏡-2 J / cm2，8 ns脈沖，典型1064 nm

入射角

633 nm處的λ/ 10超過(guò)直徑的85％

 EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

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