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簡(jiǎn)要描述：Eksma 平凹透鏡-3這些透鏡的邊緣比中心厚，一側平坦。平凹透鏡用于擴展光束或增加光學(xué)系統的焦距。它們通常用于高峰值功率脈沖激光器的光束擴展。入射在凹面上的光束將聚焦到儀器外部的一點(diǎn)。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-03-23訪(fǎng) 問(wèn) 量：642相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 平凹透鏡-3
這些透鏡的邊緣比中心厚，一側平坦。平凹透鏡用于擴展光束或增加光學(xué)系統的焦距。
Eksma 平凹透鏡-3
產(chǎn)品介紹
Ø焦距為負
Ø散發(fā)準直入射光
Ø僅形成通過(guò)鏡頭看到的虛像
Ø以負無(wú)限或近無(wú)限共軛比率降低球差，彗形像差和畸變
Ø凹面朝向較長(cháng)的共軛距離
這些透鏡的邊緣比中心厚，一側平坦。平凹透鏡用于擴展光束或增加光學(xué)系統的焦距。它們通常用于高峰值功率脈沖激光器的光束擴展。入射在凹面上的光束將聚焦到儀器外部的一點(diǎn)。
伴隨模式中斷或材料損壞，可能會(huì )在不需要的焦點(diǎn)處進(jìn)行空氣加熱和電離。為避免此問(wèn)題，應反轉輸入透鏡，以使凹面不面對平行光束。
這些鏡片可使用多種抗反射鍍膜。對于合適的鍍膜，請參考“鍍膜”部分。如果需要，我們可以提供定制的切割，磨邊，鍍膜或完整的加工。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品信息
CaF2, Size: dia 25.4 mm
型號 | 材料 | 焦距 | 直徑 | ROC | CT | ET | 鍍膜 |
112-5204E | CaF2 | -40 mm | 25.4 mm | -16.7 mm | 2.5 mm | 7.8 mm | Uncoated |
112-5205E | CaF2 | -50 mm | 25.4 mm | -20.9 mm | 2.7 mm | 7 mm | Uncoated |
112-5209E | CaF2 | -75 mm | 25.4 mm | -31.4 mm | 2.8 mm | 5.5 mm | Uncoated |
112-5211E | CaF2 | -100 mm | 25.4 mm | -41.8 mm | 3 mm | 5 mm | Uncoated |
112-5217E | CaF2 | -150 mm | 25.4 mm | -62.7 mm | 2.7 mm | 4 mm | Uncoated |
112-5219E | CaF2 | -200 mm | 25.4 mm | -83.6 mm | 3 mm | 4 mm | Uncoated |
112-5223E | CaF2 | -250 mm | 25.4 mm | -104.6 mm | 3.2 mm | 4 mm | Uncoated |
112-5225E | CaF2 | -300 mm | 25.4 mm | -125.5 mm | 3.4 mm | 4 mm | Uncoated |
112-5228E | CaF2 | -400 mm | 25.4 mm | -167.3 mm | 3.5 mm | 4 mm | Uncoated |
112-5230E | CaF2 | -500 mm | 25.4 mm | -209.1 mm | 2.6 mm | 3 mm | Uncoated |
112-5235E | CaF2 | -1000 mm | 25.4 mm | -418.2 mm | 2.8 mm | 3 mm | Uncoated |
CaF2, Size: dia 50.8 mm
型號 | 材料 | 焦距 | 直徑 | ROC | CT | ET | 鍍膜 |
112-5519E | CaF2 | -200 mm | 50.8 mm | -83.6 mm | 3.6 mm | 7.2 mm | Uncoated |
112-5525E | CaF2 | -300 mm | 50.8 mm | -125.5 mm | 3 mm | 5.6 mm | Uncoated |
112-5530E | CaF2 | -500 mm | 50.8 mm | -209.1 mm | 4 mm | 5.5 mm | Uncoated |
Stock Standard Lenses with AR Coatings
型號 | 材料 | 焦距 | 直徑 | ROC | CT | ET | 鍍膜 |
112-1105E+AR1064HT | UVFS | -25 mm | 12.7 mm | -11.9 mm | 1.3 mm | 3 mm | AR/AR@1064 nm, R<0.1% |
112-1109E+ARD1030HT | UVFS | -50 mm | 12.7 mm | -23.8 mm | 2.2 mm | 3 mm | AR/AR@515+1030 nm, R<0.1% |
112-1121E+AR1030HT | UVFS | -175 mm | 12.7 mm | -83.2 mm | 2.8 mm | 3 mm | AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1% |
112-1205E+ARB300 | UVFS | -50 mm | 25.4 mm | -23.8 mm | 1.9 mm | 5.5 mm | AR/AR@210-400 nm, R<2% |
112-1205E+AR515HT | UVFS | -50 mm | 25.4 mm | -23.8 mm | 1.9 mm | 5.5 mm | AR/AR@500-530 nm, R<0.1% |
112-1205E+ARB800HT | UVFS | -50 mm | 25.4 mm | -23.8 mm | 1.9 mm | 5.5 mm | AR/AR@700-900 nm, R<0.1% |
112-1211E+AR1030HT | UVFS | -100 mm | 25.4 mm | -47.6 mm | 3 mm | 4.7 mm | AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1% |
112-1211E+ARB1000HT | UVFS | -100 mm | 25.4 mm | -47.6 mm | 3 mm | 4.7 mm | AR/AR@900-1100 nm, R<0.1% |
112-1215E+ARD1064HT | UVFS | -125 mm | 25.4 mm | -59.4 mm | 3 mm | 4.4 mm | AR/AR@532+1064 nm, R<0.1% |
112-1217E+AR1030HT | UVFS | -150 mm | 25.4 mm | -71.3 mm | 3.1 mm | 4.2 mm | AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1% |
112-1217E+ARB800HT | UVFS | -150 mm | 25.4 mm | -71.3 mm | 3.1 mm | 4.2 mm | AR/AR@700-900 nm, R<0.1% |
112-1217E+ARD1030HT | UVFS | -150 mm | 25.4 mm | -71.3 mm | 3.1 mm | 4.2 mm | AR/AR@515+1030 nm, R<0.1% |
112-1219E+AR800HT | UVFS | -200 mm | 25.4 mm | -95.1 mm | 3.1 mm | 4 mm | AR/AR@760-840 nm, R<0.1% |
112-1219E+ARD1030HT | UVFS | -200 mm | 25.4 mm | -95.1 mm | 3.1 mm | 4 mm | AR/AR@515+1030 nm, R<0.1% |
112-1221E+AR800HT | UVFS | -250 mm | 25.4 mm | -118.9 mm | 3.3 mm | 4 mm | AR/AR@760-840 nm, R<0.1% |
112-1223E+AR800HT | UVFS | -300 mm | 25.4 mm | -142.7 mm | 3.4 mm | 4 mm | AR/AR@760-840 nm, R<0.1% |
112-1255E+AR800HT | UVFS | -5000 mm | 25.4 mm | -2377.5 mm | 2 mm | 4 mm | AR/AR@760-840 nm, R<0.1% |
112-1509E+AR800HT | UVFS | -100 mm | 50.8 mm | -47.6 mm | 5 mm | 11.9 mm | AR/AR@760-840 nm, R<0.1% |
112-1512E+AR800HT | UVFS | -150 mm | 50.8 mm | -71.4 mm | 3.2 mm | 7.9 mm | AR/AR@760-840 nm, R<0.1% |
112-1517E+AR800HT | UVFS | -250 mm | 50.8 mm | -118.9 mm | 3.1 mm | 5.7 mm | AR/AR@760-840 nm, R<0.1% |
112-1519E+AR800HT | UVFS | -300 mm | 50.8 mm | -142.8 mm | 3.5 mm | 5.8 mm | AR/AR@760-840 nm, R<0.1% |
材料 |
|
表面質(zhì)量 |
|
通光孔徑 |
|
直徑公差 | +0.00-0.12 mm |
厚度公差 | ±0.2 mm |
表面不規則 | λ/8 @ 633 nm |
CaF2表面不規則 | λ/4 @ 633 nm |
同心度 | 3 arcmin |
近軸焦距： BK7 紫外線(xiàn)FS 鈣2 |
±2% @ 546 nm |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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