Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2

Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2

Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2

分離特定波長(cháng)的s偏振和p偏振分量。由于其高損傷閾值，薄膜偏振片在高能激光器的應用中取代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

產(chǎn)品介紹

BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專(zhuān)為要求較苛刻的應用而設計，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長(cháng)或波長(cháng)范圍的S偏振和P偏振分量分開(kāi)。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2，因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長(cháng)及其諧波，也可以用作腔內Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類(lèi)型的薄膜偏振片：

Ø標準-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專(zhuān)為要求較苛刻的應用而設計，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長(cháng)或波長(cháng)范圍的S偏振和P偏振分量分開(kāi)。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2，因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長(cháng)及其諧波，也可以用作腔內Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類(lèi)型的薄膜偏振片：

Ø標準-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專(zhuān)為要求較苛刻的應用而設計，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長(cháng)或波長(cháng)范圍的S偏振和P偏振分量分開(kāi)。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2，因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長(cháng)及其諧波，也可以用作腔內Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類(lèi)型的薄膜偏振片：

Ø標準-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1

Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1