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Eksma 硒化鋅(ZNSE)透鏡

簡(jiǎn)要描述:Eksma 硒化鋅(ZNSE)透鏡
硒化鋅(ZnSe)是紅外應用中受歡迎的材料。由于透射范圍很廣,可覆蓋0.6-22 &#181;m的化學(xué)氣相沉積技術(shù),因此生長(cháng)的ZnSe作為高光學(xué)質(zhì)量的材料可用于制造光學(xué)組件。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-24
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1032

產(chǎn)品分類(lèi)

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價(jià)格區間面議
組件類(lèi)別光學(xué)元件應用領(lǐng)域醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 硒化鋅(ZNSE)透鏡


硒化鋅(ZnSe)是紅外應用中受歡迎的材料。由于透射范圍很廣,可覆蓋0.6-22 µm的化學(xué)氣相沉積技術(shù),因此生長(cháng)的ZnSe作為高光學(xué)質(zhì)量的材料可用于制造光學(xué)組件。

Eksma 硒化鋅(ZNSE)透鏡

產(chǎn)品介紹

Ø在可見(jiàn)光譜的紅色端吸收低

Ø不吸濕

Ø在實(shí)驗室環(huán)境中相當穩定

硒化鋅(ZnSe)是紅外應用中受歡迎的材料。由于透射范圍非常廣,可覆蓋0.6-22 µm的化學(xué)氣相沉積技術(shù),因此生長(cháng)的ZnSe作為高光學(xué)質(zhì)量的材料可用于制造大功率IR激光器的光學(xué)組件(窗口片,反射鏡,透鏡)。

產(chǎn)品型號

平凸

型號

直徑

焦距

 
    

561-6122

ø 12.7 mm

25.4 mm

Plano-Convex

561-6192

ø 19.1 mm

38.1 mm

Plano-Convex

561-6193

ø 19.1 mm

50.8 mm

Plano-Convex

561-6251

ø 25.4 mm

50.8 mm

Plano-Convex

561-6252

ø 25.4 mm

63.5 mm

Plano-Convex

561-6253

ø 25.4 mm

76.2 mm

Plano-Convex

561-6254

ø 25.4 mm

101.6 mm

Plano-Convex

561-6255

ø 25.4 mm

127 mm

Plano-Convex

561-6256

ø 25.4 mm

150 mm

Plano-Convex

561-6257

ø 25.4 mm

200 mm

Plano-Convex

561-6258

ø 25.4 mm

254 mm

Plano-Convex

561-6265

ø 25.4 mm

500 mm

Plano-Convex

561-6275

ø 25.4 mm

1000 mm

Plano-Convex

561-6382

ø 38.1 mm

63.5 mm

Plano-Convex

561-6385

ø 38.1 mm

127 mm

Plano-Convex

561-6388

ø 38.1 mm

190.5 mm

Plano-Convex

561-6502

ø 50.8 mm

127 mm

Plano-Convex

561-6765

ø 76.2 mm

254 mm

Plano-Convex

半月板

型號

直徑

焦距

類(lèi)型

565-6122

ø 12.7 mm

38.1 mm

Meniscus

565-6251

ø 25.4 mm

25.4 mm

Meniscus

565-6252

ø 25.4 mm

38.1 mm

Meniscus

565-6253

ø 25.4 mm

50 mm

Meniscus

565-6255

ø 25.4 mm

63.5 mm

Meniscus

565-6256

ø 25.4 mm

75 mm

Meniscus

565-6257

ø 25.4 mm

100 mm

Meniscus

565-6258

ø 25.4 mm

127 mm

Meniscus

565-6382

ø 38.1 mm

63.5 mm

Meniscus

565-6385

ø 38.1 mm

127 mm

Meniscus

565-6388

ø 38.1 mm

254 mm

Meniscus

565-6502

ø 50.8 mm

127 mm

Meniscus

565-6765

ø 76.2 mm

254 mm

Meniscus

 

物理性質(zhì)

晶體類(lèi)型

立方體

密度g / cm3

5.27

熔點(diǎn),℃

1525

折射率@ 8-13 µm

n = 2.417-2.385

折射率@ 10.6 µm

n = 2.403

透射帶,微米

0.6÷22

體積吸收系數cm-1 @ 10.6 µm

0.6-1.0×10-3

線(xiàn)性熱膨脹系數,°C-1

8.56×10-6

規格

材料

ZnSe

表面質(zhì)量

40-20 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

直徑公差

+0.0 -0.13 mm

厚度公差

±0.1 mm

焦距公差

±2% @ 10.6µm

鍍膜

both surfaces AR coated @ 10.6 µm,
R ≤ 0.5% per surface

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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