Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）

Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）

Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）

薄膜偏振片（矩形）將s偏振和p偏振分量分開(kāi)。薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代品。

產(chǎn)品介紹

Ø標準薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0％

Ø對于高消光比的薄膜偏振片，Tp> 98％，Ts <0.1％

Ø標準和高透射偏振片的消光比> 200：1

Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000：1（HE系列）

薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量。由于在800 nm，50 fsec時(shí)達到100 mJ / cm2的高損傷閾值，薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產(chǎn)品。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長(cháng)及其諧波或腔內Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。典型的水平偏振比Tp / Ts為200：1。Tp> 99％的薄膜激光偏振片可根據客戶(hù)要求提供。

產(chǎn)品型號

高消光比，UV FS，Tp> 98％，Ts <0.1％的薄膜偏振片

標準薄膜偏振片，BK7，Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

標準薄膜偏振片，UV FS，Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現現成的交付。