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Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(圓形)

簡(jiǎn)要描述:Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(圓形)
薄膜偏振片(圓形)將S和P偏振分量分開(kāi)。 由于在800 nm,50 fsec時(shí)達到100 mJ / cm2的高損傷閾值,它們可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代產(chǎn)品。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-17
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:622

產(chǎn)品分類(lèi)

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價(jià)格區間面議
組件類(lèi)別光學(xué)元件應用領(lǐng)域醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma  FEMTOLINE薄膜激光偏振片(圓形)


Eksma  FEMTOLINE薄膜激光偏振片(圓形)

薄膜偏振片(圓形)將S和P偏振分量分開(kāi)。 由于在800 nm,50 fsec時(shí)達到100 mJ / cm2的高損傷閾值,它們可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代產(chǎn)品。

產(chǎn)品介紹

Ø標準薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0%

Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0%

Ø對于高消光比的薄膜偏振片,Tp> 98%,Ts <0.1%

Ø標準和高透射偏振片的消光比> 200:1

Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000:1(HE系列)

薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量。由于在800 nm,50 fsec時(shí)達到100 mJ / cm2的高損傷閾值,薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產(chǎn)品。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長(cháng)及其諧波或腔內Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。典型的水平偏振比Tp / Ts為200:1。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現現成的交付。

產(chǎn)品型號

高消光比的薄膜偏振片; UVFS; Tp> 98%,Ts <0.1%

型號

材料

直徑

厚度

波長(cháng)

偏振效率

消光比

420-1242HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

343 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

420-1244HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

515 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

420-1266HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

780-820 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

420-1256HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

800 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

420-1248HE

UV FS

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

高透射率薄膜偏振片; 紫外線(xiàn)FS; Ts <0.2%,Rp <0.2%

型號

材料

直徑

厚度

波長(cháng)

偏振效率

消光比

420-1256UHT

UV FS

25.4 mm

3 mm

800 nm

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

420-1248UHT

UV FS

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

高透射率薄膜偏振片; 紫外線(xiàn)FS; Rs / Tp> 99.5 / 99.0%

型號

材料

直徑

厚度

波長(cháng)

偏振效率

消光比

420-1242HT

UV FS

25.4 mm

3 mm

343 nm

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

420-1244HT

UV FS

25.4 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

420-1256HT

UV FS

25.4 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

420-1248HT

UV FS

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

標準薄膜偏振片; BK7; Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%

型號

材料

直徑

厚度

波長(cháng)

偏振效率

消光比

420-0114E

BK7

12.7 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0126E

BK7

12.7 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0136E

BK7

12.7 mm

3 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0118E

BK7

12.7 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0138E

BK7

12.7 mm

3 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0244E

BK7

25.4 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0256E

BK7

25.4 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0266E

BK7

25.4 mm

3 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0248E

BK7

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0268E

BK7

25.4 mm

3 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0514E

BK7

50.8 mm

6 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0506E

BK7

50.8 mm

6 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0526E

BK7

50.8 mm

6 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0518E

BK7

50.8 mm

6 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-0528E

BK7

50.8 mm

6 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

標準薄膜偏振片; UVFS; Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%

型號

材料

直徑

厚度

波長(cháng)

偏振效率

消光比

420-1110E

UV FS

12.7 mm

3 mm

266 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1112E

UV FS

12.7 mm

3 mm

343 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1123E

UV FS

12.7 mm

3 mm

400 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1114E

UV FS

12.7 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1126E

UV FS

12.7 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1136E

UV FS

12.7 mm

3 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1118E

UV FS

12.7 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1138E

UV FS

12.7 mm

3 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1240E

UV FS

25.4 mm

3 mm

266 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1242E

UV FS

25.4 mm

3 mm

343 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1253E

UV FS

25.4 mm

3 mm

400 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1244E

UV FS

25.4 mm

3 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1256E

UV FS

25.4 mm

3 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1266E

UV FS

25.4 mm

3 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1248E

UV FS

25.4 mm

3 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1268E

UV FS

25.4 mm

3 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1510E

UV FS

50.8 mm

6 mm

266 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1512E

UV FS

50.8 mm

6 mm

343 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1503E

UV FS

50.8 mm

6 mm

400 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1514E

UV FS

50.8 mm

6 mm

515 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1506E

UV FS

50.8 mm

6 mm

800 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1526E

UV FS

50.8 mm

6 mm

780-820 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1518E

UV FS

50.8 mm

6 mm

1030 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

420-1528E

UV FS

50.8 mm

6 mm

1010-1050 nm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

材料

BK7, UV FS

表面質(zhì)量

20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

透射波前畸變

λ/10 @ 633 nm

透射效率

Tp>95%

消光比Tp / Ts

> 200:1(用于標準和HT系列)

> 1000:1(對于HE系列)

激光損傷閾值

> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm,50 Hz

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現現成的交付

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現現成的交付。

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